年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Tri Fl Uoride), 化学式 NF3, 是⼀种强氧化剂. 作为⼀种重要的⼯业特种⽓体, 作为⼀种重要的⼯业特种⽓体.
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体。显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓認咍清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来家.

Nitrogen trifluoride, usoro kemịkalụ NF3, bụ ihe na-emepụta ihe na-ekpo ọkụ. Dị ka gas pụrụ iche nke mmepụta ihe dị mkpa, ọ nwere ọtụtụ ngwa ngwa.
N'ime ụlọ ọrụ microelectronics, nitrogen trifluoride bụ ezigbo gas etching plasma; N'ime mgbawa semiconductor, ihe ngosi flaat panel, eriri anya, mkpụrụ ndụ fotovoltaic na mpaghara nrụpụta ndị ọzọ, nitrogen trifluoride na-ejikarị dị ka plasma etching gas na mmeghachi omume nhicha oghere.
Enwere ike iji ya na lasers kemịkalụ ike dị elu iji nweta ngwa ya site na iji hydrogen mee ihe iji wepụta nnukwu okpomọkụ n'otu ntabi anya. A na-ejikwa Nitrogen trifluoride mee ihe dị ka mmanụ ọkụ dị elu yana dị ka oxidizer na ihe na-akpali akpali na mgbawa rọketi.